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CIF專注材料表面處理技術(shù),為客戶提供專業(yè)清洗、去膠、刻蝕、涂層等方面儀器裝備和應(yīng)用工藝解決方案!等離子表面處理儀是利用等離子體技術(shù)對材料表面進(jìn)行改性的先進(jìn)設(shè)備。等離子體,作為物質(zhì)的第四種狀態(tài),它由高速運(yùn)動的電子、激活狀態(tài)的中性原子、離子和自由基組成,在特定的壓力和能量供給條件下由氣體轉(zhuǎn)化而來。
等離子灰化儀,又稱等離子體灰化設(shè)備或等離子體灰化爐,是一種利用等離子體技術(shù)將樣品中的有機(jī)物質(zhì)進(jìn)行高溫氧化分解,從而將其轉(zhuǎn)化為無機(jī)灰分的設(shè)備。其核心原理是通過產(chǎn)生高能等離子體,可以在短時(shí)間內(nèi)將樣品加熱至超高溫度,實(shí)現(xiàn)樣品的快速灰化。
等離子去膠機(jī)的工作原理基于等離子體技術(shù),利用高能離子和電子的化學(xué)和物理作用來去除膠水或粘合劑殘留物。這種技術(shù)具有高效、無污染和無需使用化學(xué)溶劑的優(yōu)點(diǎn),因此被廣泛應(yīng)用于電子制造、光學(xué)器件、航空航天和汽車行業(yè)等領(lǐng)域。
RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(Reactive Ion Etching)是一種常用的微納加工設(shè)備,主要用于制備微細(xì)結(jié)構(gòu)和納米器件。它通過將反應(yīng)氣體引入真空室,并施加射頻功率和直流電場,利用離子轟擊和化學(xué)反應(yīng)的方式對材料表面進(jìn)行刻蝕。真空室可用于創(chuàng)建和維持高真空環(huán)境。真空室通常由高真空室和低真空室組成,通過真空泵系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)氣體的排除。
在如今注重衛(wèi)生和清潔的社會,紫外臭氧清洗機(jī)作為,正在迅速受到廣泛關(guān)注,該設(shè)備結(jié)合了紫外線和臭氧的特性,提供了一種環(huán)保高效的清潔解決方案。利用紫外線和臭氧的協(xié)同作用,實(shí)現(xiàn)對空氣和表面的殺菌和清潔。紫外線具有較強(qiáng)的紫外光線,可破壞細(xì)菌和病毒的DNA結(jié)構(gòu),導(dǎo)致其死亡和失去繁殖能力。臭氧則具有強(qiáng)氧化性,能夠快速氧化并分解有機(jī)物,從而達(dá)到清潔的效果。將紫外線和臭氧結(jié)合在一起,通過產(chǎn)生臭氧和釋放紫外線,實(shí)現(xiàn)對空氣和物體表面的全方位清潔和殺菌。
電鏡等離子清洗機(jī)是一種用于電子顯微鏡(電鏡)樣品表面清洗和去除有機(jī)污染物的設(shè)備。通過在真空環(huán)境中產(chǎn)生等離子體,并將等離子體束聚焦到樣品表面。等離子體束中的離子具有高能量,當(dāng)它們與樣品表面接觸時(shí),會發(fā)生離子撞擊和化學(xué)反應(yīng),從而去除表面的有機(jī)污染物和雜質(zhì)
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