勻膠機是一種常見用于材料薄膜制備工藝的實驗室設備，它的原理相對比較簡單，利用電機高速旋轉時所產(chǎn)生的離心力使得試液或者膠液均勻地涂敷在基底材料的表面，可以“讓膠液均勻涂敷的機器”。

勻膠機有很多稱謂，勻膠臺，旋轉涂膜機，旋轉涂層機或者旋轉涂敷機等等，它的英文是 Spin Coater（旋轉涂膜的意思）。勻膠機既然是科研開發(fā)上制備薄膜材料的方法之一，使用者對于該設備期待就在于其能夠“均勻”地涂敷試液或者膠液。

通常我們會用均一性和可重復性來衡量薄膜材料制備的好壞。國內(nèi)外對于這種勻膠旋涂設備的發(fā)展呈現(xiàn)出很大的差距。中國先開展勻膠機研制的單位是中科院微電子所，推出的KW-4A型號的勻膠機，具有低速起步和高速旋轉兩個單位。

 CIF生產(chǎn)的勻膠機，  采用閉環(huán)控制伺服電機，數(shù)字式增速信號反饋，速勻準確，壽命長，保證勻膠的均一性。5寸全彩觸摸屏，智能程序化可編程操控顯示，標配10個勻膠梯度階段（速度和時間梯度設置），可選配10個可編程程序，每個程序下可設置10個勻膠梯度階段，z多100個階段。內(nèi)置水平校準裝置，保證旋涂均勻，可對大小不同規(guī)格的基片進行旋涂。多重安全保護:樣品托盤卡口和樣品托盤之間三重密封安全保護，有效降低電機進膠的風險。一機兩用，根據(jù)

不同樣品可選真空吸盤和非真空卡盤兩種旋涂方式。不銹鋼噴塑涂層旋涂殼體，旋涂腔體采用PTFE材料。旋涂托盤采用聚丙烯（NPP-H）材料，耐酸堿防腐蝕，保證儀器在苛刻條件下仍能正常運行。上下雙腔體設計，較大的上腔體便于擦拭去除膠液，錐形下腔體結構設計便于收集膠液，并帶廢膠收集裝置。可選氮氣吹干、氮氣保護，自動滴膠或簡易滴膠裝置，提供多種的操作便利性。適用硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs，GaN，InP 等多種材料。